本發明提供一種高致密度鉬鉭合金濺射靶材的制備工藝,該工藝包括如下步驟:S1、鉭粉氫化處理;S2、原料混合;S3、膠套裝粉作業;S4、冷等靜壓作業:升壓至一定壓力后,保壓一段時間,然后泄壓,最后將壓制坯從膠套取出;S5、真空燒結;S6、熱軋作業:對鉬鉭合金進行金屬包套軋制,熱軋后退火去除應力;S7、進行磨削等機加工作業,得到最終所需產品尺寸。本發明的工藝步驟簡單,操作便捷,制備的鉬鉭合金濺射靶材純凈度、相對密度均滿足高端電子產品鍍膜領域使用需求,且生產成本低,產品尺寸寬泛,便于工業化批量生產。
聲明:
“高致密度鉬鉭合金濺射靶材的制備工藝” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)