可調控周期的光柵及制備方法

權利要求 1.可調控周期的光柵，其特征在于，包括：基底層（1）； 光柵層（2），所述的光柵層（2）設置在所述基底層（1）之上； 包層薄膜（3），所述的包層薄膜（3）設置在所述光柵層（2）之上； 所述光柵層（2）由可逆相變材料制成；所述光柵層（2）上設置有光柵結構（4）； 所述光柵結構（4）包括多個(gè)光柵周期結構（5），所述多個(gè)光柵周期結構（5）由激勵信號刻畫(huà)而成； 每個(gè)所述光柵周期結構（5）包括至少兩個(gè)直線(xiàn)結構（6）； 所述至少兩個(gè)直線(xiàn)結構（6）的折射率不同。 2.根據權利要求1所述可調控周期的光柵，其特征在于， 每個(gè)所述光柵結構（4）包括：第一直線(xiàn)結構和第二直線(xiàn)結構，所述第一直線(xiàn)結構和所述第二直線(xiàn)結構的折射率差值的范圍為0~0.9。 3.根據權利要求1所述可調控周期的光柵，其特征在于，所述至少兩個(gè)直線(xiàn)結構的折射率沿所述至少兩個(gè)直線(xiàn)結構的設置方向呈階梯周期變化。 4.根據權利要求3所述可調控周期的光柵，其特征在于，所述光柵周期結構（5）中的相鄰直線(xiàn)結構可以是周期漸變的，所述的周期漸變是指相鄰直線(xiàn)結構（6）的折射率沿直線(xiàn)結構（6）的設置方向是平穩光滑的漸變。 5.根據權利要求4所述可調控周期的光柵，其特征在于，所述光柵結構（4）的折射率大于所述光柵層（2）中未設置有所述光柵結構（4）的區域的折射率； 所述光柵層（2）中未設置有所述光柵結構（4）的區域的折射率大于所述基底層（1）、所述包層薄膜（3）的折射率。 6.根據權利要求1所述可調控周期的光柵，其特征在于， 具有不同折射率的所述直線(xiàn)結構（6）由不同能量大小的激勵信號刻畫(huà)而成； 具有不同周期的所述光柵周期結構（5）由不同尺寸的激勵信號刻畫(huà)而成。 7.根據權利要求1所述可調控周期的光柵，其特征在于， 所述基底層（1）為紅外透明結構，所述光柵結構（4）為透射式光柵結構；或， 所述基底層（1）為反射結構，所述光柵結構（4）為反射式光柵結構。 8.根據權利要求1-7任一項所述可調控周期的光柵，其特征性在于，所述直線(xiàn)結構（6）的最小線(xiàn)寬為200nm。 9.一種可調控周期的光柵的制備方法，其特征在于，包括： 選取鍍好可逆相變材料和包層薄膜