本實用新型公開了一種金屬釩真空還原制備裝置,涉及金屬還原制備器械領域,針對目前的真空還原設備對待還原的金屬進行還原反應時,由于待還原的金屬與還原劑沒有充分混合,導致其反應過程較為長久的問題,現提出如下方案,其包括底座,所述底座頂端一側固定安裝有真空還原機箱,且所述真空還原機箱一側設置有真空泵,所述真空泵通過管道與真空還原機箱固定連接,且所述真空泵固定安裝于底座頂端遠離真空還原機箱的一端。本實用新型結構新穎,且該裝置不僅能夠控制待還原金屬與還原劑的比例,還能夠將待還原金屬與還原劑進行混合,提高在真空還原機箱中的反應效率,解決了目前的真空還原設備還原效率低的問題。
聲明:
“金屬釩真空還原制備裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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