本實用新型涉及冶金、化工設備領域,具體涉及一種用于制取五氧化二釩的還原爐的底座,包括座體、二次加熱塊、電熱管,所述座體中部設有盆腔,所述二次加熱塊設置在所述盆腔中,所述二次加熱塊內設有多個槽道,所述電熱管設置在所述槽道中,所述座體的一側壁設有與所述槽道相對應的開孔。本實用新型將電熱管設置在導熱層下部,既保證了電阻絲不被物料干擾引發短路,又避免了由于電阻絲受耐高溫管以及還原爐底座與物料架之間的空氣層的阻隔導致的熱利用效率較低的問題。
聲明:
“還原爐底座” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)