本實用新型屬于用物理冶金技術提純多晶硅的技術領域。一種電子束淺熔池熔煉用水冷裝置,支撐底座內安裝有水冷支撐桿,石墨塊安裝于水冷支撐桿的上方,支撐底座上一側固定兩根水冷連通軸,水冷銅套環采用相對成圓形的兩瓣式結構,每瓣套環的一側有套孔,套孔與水冷連通軸套裝,每瓣套環可圍繞水冷連通軸轉動,套環的另一側設有開閉裝置,每瓣套環中開有冷卻水通道,套環開閉裝置一側的支撐底座上安裝有結晶器。本實用新型裝置結構緊湊,構思獨特,在硅錠的外壁套上多層銅套環,在銅套環中形成淺層熔池,熔煉后去除磷雜質,此裝置使得熔化提純時間減少,整體提純時間減少,能耗降低,效率提高,去除效果良好,適合大規模工業化生產。
聲明:
“電子束淺熔池熔煉用水冷裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)