本發明的目的在于克服現有高壓反應釜的不足,提供了一種可在線測量加壓濕法體系電位的高壓反應釜,屬于氧化還原反應體系實驗設備領域。本裝置包括高壓反應釜釜體、釜蓋、加熱組件、加壓組件、攪拌組件、壓力測量組件、溫度測量組件,還包括導管、電位測量儀、測量電極、參比電極和冷凝裝置。該裝置可以測量反應釜內高溫高壓體系下的電位值,從而為高溫高壓下pH—電位圖的繪制提供基礎數據;可以測量反應釜內高溫高壓體系下反應過程中電位的變化趨勢,以此來判斷反應進行的程度和快慢,為濕法冶金的研究提供基礎的理論數據;可適用于氧氣、二氧化碳、氫氣以及不外加氣體的加壓氧化還原反應體系。
聲明:
“可在線測量加壓濕法體系電位的高壓反應釜” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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