本發明公開的是化工冶金技術領域的一種低溫沸騰氯化爐反應段結構,所述反應段的底部設有氣體分布器,反應段的壁面上設有氣幕分布器,所述氣體分布器上均布有多個豎直向上的吹氣孔,所述氣幕分布器上均布有多個與反應段連通的氣幕孔。本發明的有益效果是:利用設置在爐底的氣體分布器噴出N2來向上提升碳化渣并使其在反應段內沸騰流態化,然后利用氣幕分布器噴出旋流式的Cl2與碳化渣充分接觸,并且促使爐內TiC的分布均勻,直接參與氯化主反應即可,不再消耗過多氯氣以提供流化動力,大大提升了TiC的轉化率,節省了資源,降低了環境的污染。
聲明:
“低溫沸騰氯化爐反應段結構” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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