本發明屬于高溫難熔金屬靶材制備領域,具體涉及一種鉬合金濺射靶材的制備工藝,本發明采用粉末冶金方法制備,靶材所用原料包含合計原子百分比0.5%??40%的Ga、Ni、Nd元素組中的至少一種元素和原子比0.5%??40%的Ti作為摻雜金屬,余量為Mo和不可避免的雜質;本發明經過原料配比、原料混合、膠套裝粉定型、冷等靜壓作業、熱等靜壓作業、熱軋作業和機加工作業,得到最終所需產品尺寸;本發明工藝步驟簡單,操作便捷,制備的鉬合金濺射靶材耐氧化性、耐濕性、與PR膠的粘合力等各項技術指標優秀,可滿足高端電子產品鍍膜領域使用需求,且生產成本低,產品尺寸寬泛,便于工業化批量生產。
聲明:
“鉬合金濺射靶材的制備工藝” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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