本發明公開了工業硅真空熔煉產物的純度檢測方法:(a)選取兩個同批次同型號的坩堝A、坩堝B,測定其質量為mA1、mB1;(b)稱取M克真空熔煉產物,置于坩堝A中,加水潤濕,依次加入1~3ml密度為1.84g/ml的硫酸、8ml密度為1.15g/ml的氫氟酸、5ml密度為1.42g/ml的硝酸,對坩堝A低溫加熱蒸發直至內部干燥;(c)將坩堝A、坩堝B共同置于高溫爐內,在850~1000℃的高溫下灼燒30~40min,將坩堝A、坩堝B共同冷卻至室溫,稱取此時重量分別記為mA2、mB2;(d)計算真空熔煉產物中硅的百分含量:Si(%)=[M?(mA2?mA1)×S?(mB2?mB1)]÷M×100%。本發明用以解決現有技術中不便直接對工業硅的硅純度進行測定的問題,實現簡單、快速的對冶金行業中工業硅純度進行檢測的目的。
聲明:
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