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調控高溫熔鹽中電化學沉積硅擇優取向生長方法及裝置

1137   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-18 14:46:34
一種調控高溫熔鹽中電化學沉積硅擇優取向生長方法及裝置，屬于高溫熔鹽中電化學沉積硅領域。該方法以冶金硅為陽極，陰極材料為陰極，以氟硅酸鹽和堿金屬鹵化物的混合物為熔鹽電解質，采用其裝置實現密封，并從進氣口持續通入惰性氣體，從出氣口排出惰性氣體，保持反應器內正壓；升溫，構建起高溫、常壓、無水，隔絕空氣的環境；采用其裝置對熔鹽進行攪拌；電極間施加電壓電沉積硅；在電沉積硅時，通過攪動熔鹽電解質改變硅沉積電化學過程傳質，實現調控高溫熔鹽中電化學沉積硅膜擇優取向生長，甚至得到單晶硅沉積物。并提供了實現攪動熔鹽并密封的裝置，其實現了高溫條件下，常壓、無水，隔絕空氣的熔鹽環境中攪動熔鹽的功能，成本低、操作簡單。
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