本發明涉及一種使用冶金級硅制備多孔硅納米線的方法,它包括以下步驟:(a)將冶金級硅浸入不同有機溶液中,分別超聲處理15~30分鐘;(b)將超聲處理后的冶金級硅浸入氧化溶液中,在50~90℃條件下反應0.5~5小時得氧化冶金級硅;(c)置于質量濃度為10~30%氫氟酸溶液;(d)真空濺射30~60秒得到銀沉積冶金級硅;(e)將所述銀沉積冶金級硅浸入氫氟酸與強氧化物的混合溶液中,在40~80℃條件下超聲1~5小時后取出放入管式爐中通含氟氣體2~3小時并進行干燥;(f)表面進行剝離得到多孔硅納米線。一方面離子濺射儀沉積的銀納米粒子顆粒均勻,有利于在硅納米線上形成孔徑均勻的多孔結構;另一方面縮短時間、提高效率;而且該發明簡單易行,適于大規模生產。
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