本實用新型適用于除雜裝置技術領域,提供一種反應釜中除雜試劑的添加裝置,通過設置若干層圓形管道,并在每層圓形管道上開有圓孔,除雜試劑通過圓孔可以快速均勻的分布在反應釜各位置處,除雜試劑與雜質離子的沉淀反應進行得更加快速和充分,試劑消耗量可有效降低25%,有價金屬沉淀率可有效降低50%,當停止加入除雜試劑時,磁性活塞封閉圓孔,能有效防止反應釜內液體進入圓形管道內部,造成腐蝕堵塞等情況,本裝置還具有結構簡單、使用方便的特點。
聲明:
“反應釜中除雜試劑的添加裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)