本實用新型公開了一種沉淀反應用分布反應器,包括:反應容器,具有上部開口的容納腔;分布器環繞設置且中心形成有安裝讓位,所述分布器設有分布腔,所述分布腔連通有若干分布孔,所述分布孔的出液液位高于分布腔的最低位置;蓋體蓋設于反應容器上端以封閉容納腔上部開口。本實用新型攪拌軸從安裝讓位穿過,安裝時,不產生結構干涉;利用分布孔實現液體均勻分散添加,且由于分布孔的出液液位高于分布腔的最低位置,使得液體剛進入分布腔時,不會立馬從分布孔出來,而是等液位高度高于分布孔的出液液位高度時,才從分布孔出去,這樣可以盡量減少分布孔由于位置分布的差異而導致的出液量的差異,提高液體添加的均勻性。
聲明:
“沉淀反應用分布反應器” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)