本發明公開了一種均相陰離子交換膜及其制備裝置,具體涉及陰離子交換膜加工技術領域,包括底座,底座的外壁固定連接有用于固定零部件支撐的第一連接臂,第一連接臂的頂部固定連接有用于緩沖零部件整體晃動的第一緩沖套管。本發明接觸圈的底部與膜體的表面進行貼合,在第一安裝槽的內部設置了切刀圈,使用者轉動接觸圈整體時,接觸圈整體產生滾動效果,帶動貼合在底部的膜體進行位移,位移過程中,第一安裝槽內部的切刀圈對膜體進行切割處理,在接觸圈的內部設置了氣囊平衡塊,接觸圈整體在旋轉過程中,利用接觸圈內部的氣囊平衡塊進行適配重量,使得接觸圈整體保持水平狀態,防止接觸圈的底部與膜體過度接觸,影響膜體裁剪。
聲明:
“均相陰離子交換膜及其制備裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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