本發明屬于電沉積技術領域。本發明提供了一種甲基磺酸體系電積液,所述甲基磺酸體系電積液包含甲基磺酸鉍、甲基磺酸亞鐵和甲基磺酸;甲基磺酸體系電積液中,鉍離子的濃度為50~120g/L,亞鐵離子的濃度為1~50g/L,游離甲基磺酸的濃度為50~180g/L。本發明還提供了一種甲基磺酸體系電積液制備金屬鉍的方法和應用。本發明的甲基磺酸體系電積液具有鉍溶解度高、環境友好、電導率高、揮發性小、穩定性強等優點,能夠有效解決濕法煉鉍的鹽酸或氯鹽體系料液揮發性強、難以產出致密平整的陰極鉍產品等問題;通過陰離子隔膜設置和電積液流動方式的控制可避免亞鐵離子在陰、陽極之間來回遷移,導致電流效率大幅降低。
聲明:
“甲基磺酸體系電積液及其制備金屬鉍的方法和應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)