本發明涉及一種光譜分析用高純等靜壓石墨材料的制備方法,包括以下步驟:獲取滿足指標條件的各組分?二次炭黑的制備?第一次干混?第二次干混?濕混?等靜壓成型及后續工藝處理?石墨化處理制成光譜分析用高純等靜壓石墨材料,本發明通過在原料瀝青焦中加入二次炭黑、石墨粉等,與原料中的其他材料相融合,可以補充成品石墨材料的機械強度;本發明對原料進行研磨,再通過模壓成型、燒結炭化處理,最后通過石墨化工藝,可以增加高純石墨材料的密度和強度。
聲明:
“光譜分析用高純等靜壓石墨材料及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)