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監控化學氣相沉積前腔體潔凈度的方法

754   編輯:管理員   來源:中冶有色網  
2023-03-19 09:02:33
本發明提供一種監控化學氣相沉積前腔體潔凈度的方法,其利用一種會因為腔體潔凈度而導致消光系數值產生變化的材質如氮氧化硅來作為一監控層,通過經過兩次不同時間長度的清洗工藝后所沉積氮氧化硅層進行消光系數值測量,觀察兩氮氧化硅層的消光系數值的差異,來對腔體潔凈度進行監控,以簡便的方式控制腔體的潔凈度,降低了因微塵粒而產生組件失效的危險,提高了效率。
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“監控化學氣相沉積前腔體潔凈度的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)
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