本發明提供一種光刻設備、定位系統和定位方法。具體地,一種用于光刻設備的定位系統,包括:控制系統,用于沿至少一個基本上平行于框架的方向定位所述光刻設備的可移動物體,所述控制系統包括:測量系統,用于測量所述可移動物體的位置;致動器,用于施加力到所述可移動物體;和控制器,用于基于所述測量系統的輸出提供驅動信號給所述致動器;和緊急制動系統,其配置成確定所述控制系統的失效,并且如果確定所述失效,禁用所述控制系統并且對抗所述框架拉動所述可移動物體。
聲明:
“光刻設備、定位系統以及定位方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)