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下層金屬布線的安全精確切割方法

938   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 09:01:24
本發明公開了一種下層金屬布線的安全精確切割方法，包括以下步驟：步驟一、按以下流程用聚焦離子束技術，實現下層金屬線切割：刻蝕時，IEE針進入反應腔，但針的閥門不打開，以離子束在每個像素上的停留時間1微秒，面積重疊比例50%的條件進行刻蝕，最外刻蝕框大小為10微米×10微米以上，每一次新刻蝕框都要求比上級框尺寸小10%以上，且不包含上級刻蝕框暴露的金屬線，以及距暴露金屬線1微米以上位置，刻蝕終點為下一層金屬線暴露，暴露出待切割金屬線；步驟二、切割金屬線，刻蝕時間在20秒-50秒，并切斷金屬線；步驟三、最后用500pA-1000pA間的束流，對全部刻蝕框用增強刻蝕模式進行清理。本發明提高芯片的線路修復效率和成功率，大大加快芯片設計初期的調試進程和失效分析的速度，加快產品的上市速度及找到提高芯片量產的良品率。
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聲明：
“下層金屬布線的安全精確切割方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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