本發明提供了一種聚焦離子束分析方法,包括,步驟一:選擇待分析樣品;步驟二:利用離子束刻蝕所述待分析樣品,以獲得切割截面;步驟三:利用電子束照射觀察是否出現電荷沉積效應,當未出現電荷沉積效應時,獲得電子束圖像,當出現電荷沉積效應時,在所述切割截面的側面上形成有機源層之后,重新獲得電子束圖像;步驟四:判斷獲得的電子束圖像是否顯示目標截面,當電子束圖像顯示非目標截面時,重復步驟二至步驟四,直至獲得目標截面;當電子束圖像顯示為目標截面時,導出獲得的電子束圖像,并進行失效分析。本發明所述方法可避免電荷沉積效應對失效分析結果的影響。
聲明:
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