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接觸孔失效評估方法

926   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 08:59:38
本發明提供了接觸孔失效評估方法,包括:提供評估晶圓,在所述評估晶圓上形成評估器件圖形,所述評估器件圖形包括第一器件區以及第二器件區;其中,第二器件區與PMOS晶體管的結構以及尺寸相同;第一器件區與NMOS晶體管相比,區別在于對應NMOS晶體管的P阱具有不同的摻雜類型,使得在進行電子束掃描時,第一器件區中N型摻雜的有源區的導電能力強于NMOS晶體管的源/漏極;在所述評估晶圓上進行與產品晶圓相同的接觸孔形成工藝;采用電子束掃描評估晶圓的表面,并獲取晶圓表面各處的掃描亮度;本發明在電子束掃描接觸孔時,形成較亮光斑,從而易于與周圍區域區分開,有效避免了機臺對失效接觸孔的漏檢或錯檢。
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