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失效分析結構的制備方法及失效分析方法

1028   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 08:59:29
本發明涉及一種失效分析結構的制備方法及失效分析方法。失效分析結構的制備方法包括：提供待分析樣品，待分析樣品包括待分析芯片及承載基底，承載基底位于待分析芯片的正面；提供底板；將待分析樣品貼置于底板上，待分析芯片的背面朝向底板；形成防護層，防護層至少覆蓋待分析芯片的側壁；使用腐蝕液去除承載基底。本發明的失效分析結構的制備方法，在去除承載基底的過程中無需使用到離子刻蝕機等復雜設備，操作方便，且沒有氯氣等腐蝕性氣體的使用，不會對待分析芯片造成腐蝕破壞；并且通過形成防護層至少覆蓋待分析芯片的側壁，因此去除承載基底的過程中不會損傷芯片的側壁，進而不會破壞芯片的信息及定位圖案，以便后續對芯片進行信息確認。
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聲明：
“失效分析結構的制備方法及失效分析方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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失效分析
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