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基于量子Zeno效應下光學材料折射率的無損耗測量裝置

977   編輯:管理員   來源:中冶有色網  
2023-03-19 08:57:59
本發明屬于量子精密測量技術領域,公開了一種基于量子Zeno效應下光學材料折射率的測量裝置,包括:基膜高斯光束、高階拉蓋爾高斯光束、不等臂MZ干涉儀、以及高分辨率CCD成像系統;基膜高斯光束和高階拉蓋爾高斯光束具有鎖定的頻率差;其中不等臂MZ干涉儀包括經第一分束鏡、上臂結構和下臂結構和第二分束鏡,基膜高斯光束和高階拉蓋爾高斯光束從第一分束鏡的同側入射后,分別經上臂結構和下臂結構后從兩側分別入射至第二分束鏡,高分辨CCD成像系統設置在下臂結構的同側。本發明結構簡單緊湊、可在無損耗條件下實現精確測量。
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“基于量子Zeno效應下光學材料折射率的無損耗測量裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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