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具有擇優取向的Ga2O3和SnO2混相膜的制備方法

1036   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 08:56:35
一種具有擇優取向的Ga2O3和SnO2混相膜的制備方法是將Ga2O3粉末和SnO2粉末與碳粉末按比例混合并研磨，獲得固體混合粉末，并以此為反應源，將基片和反應源置于高溫管式爐中，利用化學氣相沉積法，通過熱碳還原Ga2O3和SnO2提供Ga源和Sn源，以氧氣為氧源，惰性氣體為載氣，在一定的反應源溫度、基片溫度、生長壓力、沉積時間、載氣和氧氣比例下，在基片上獲得具有擇優取向的Ga2O3和SnO2混相膜，本方法實現了Ga2O3和SnO2均具有單一的擇優取向，而且工藝簡單，設備低廉，在紫外探測、透明導電氧化物、高功率器件、發光二極管、紫外探測、薄膜晶體管、氣體傳感器和磁性半導體等領域具有潛在的應用。
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