本發明涉及一類近紅外氟硼二吡咯熒光染料及其制備方法。所述的染料具有以下通式:該類熒光染料采用鹵代的吡咯或異吲哚的醛或亞胺類化合物與吡咯類衍生物“一鍋法”合成,發射波長大于600nm,單苯乙烯基取代的該類染料及其衍生物的發射光譜可達714nm;該類熒光染料具有較高的熒光量子產率(0.61-0.91)和較好的光穩定性等優異的光物理化學性能,在熒光標記和生物成像等生物分析領域具有良好的應用前景。
聲明:
“一類近紅外氟硼二吡咯熒光染料及其合成方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)