本發明涉及一種卷煙煙氣色譜基線校正MPLS方法,屬煙草化學與應用技術領域。本發明方法引入了化學計量法中的基于數學形態學的峰識別、懲罰最小二乘方法原理進行卷煙煙氣色譜信息基線校正,即:利用數學形態學的開啟運算找出卷煙煙氣色譜信號中的峰位置,后記錄相鄰峰之間的最低點,通過最低點作為權重的懲罰最小二乘擬合出背景,通過智能模擬專家手工進行基線校正過程,并將其自動化。本發明的有益效果在于:扣除背景后卷煙煙氣的主成分分析結果相對于該算法處理前有較大的改進,驗證了算法的有效性。說明MPLS方法是卷煙煙氣GC/oa-TOF-MS色譜基線校正非常有用的工具,為煙草化學與應用技術開辟了一個新的應用領域,為卷煙煙氣研究提供了一個新的方法與思路。
聲明:
“卷煙煙氣色譜基線校正MPLS方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)