本發明屬于石墨烯和普魯士藍復合納米片材料修飾電極的制備技術,具體涉及一種利用簡單的濕化學法制備石墨烯和普魯士藍復合納米片材料修飾電極的方法。該方法具有操作簡單,成本低,所得材料比表面積大、分散性好等優點。本發明是以石墨、氯化鐵、鐵氰酸鉀、氯化鉀為原料,采用濕化學法,制備石墨烯/普魯士藍復合納米片。本發明利用了石墨烯片的還原性質,從而定向的將普魯士藍負載在石墨烯片的表面。通過該方法可以制備出響應恢復較好,靈敏度高,檢測限低的H2O2電化學傳感器。該方法具有操作簡單,低成本,高性能,易于推廣等優點??梢詽M足在化學、臨床醫學及生物醫學等領域中廣泛的應用。
聲明:
“新型高性能復合納米材料修飾電極的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)