本發明屬于金屬腐蝕及電化學測試研究技術領域,具體涉及一種用于測試流動狀態時垢下腐蝕的單元式陣列電極系統的測試方法,該方法通過電化學測試系統對單元式陣列電極在動態環境中的電化學信息分布予以表征,獲得其腐蝕電位與電流密度信息;通過SEM、XRD技術對表面垢層的形貌和成分進行表征,改變條件并重復以上實驗,完成測試;該系統包括電化學測試系統、電解池和單元式陣列電極,單元式陣列電極由若干個三電極單元通過絕緣材料封裝而成,三電極單元中的輔助電極絲、參比電極絲和工作電極絲工作端面上均有垢層。該系統通過單元式陣列電極技術,在金屬表面有垢的情況下準確測試不同時刻、不同流速的電化學信息分布。
聲明:
“用于測試流動狀態時垢下腐蝕的單元式陣列電極系統的測試方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)