本發明提供一種包含拋光層(10)的化學機械拋光墊,該拋光層(10)包含疏水區(30)、親水區(40)及終點檢測口(20)。該疏水區實質上與該終點檢測口(80)相鄰。該疏水區(30)包含具有表面能為34MN/M或更小的聚合材料及具有表面能超過34MN/M的聚合材料。本發明進一步提供一種拋光基材的方法,包括使用該拋光墊。
聲明:
“包含疏水區及終點檢測口的拋光墊” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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