本實用新型提供一種基于高阻硅的太赫茲衰減全反射檢測裝置,包括樣品池框架及固定于樣品池框架下方的倒置的三棱柱形高阻硅棱鏡、所述樣品池框架中部具有鏤空部,三棱柱形高阻硅棱鏡的底面與鏤空部形成放置分辨物體的樣品池腔室,所述鏤空部的上表面可拆連接有樣品池蓋,利用上述裝置能夠通過利用太赫茲波在高阻硅棱鏡內部發生衰減全反射,而后在棱鏡底部形成倏逝波與樣品進行反應,從而實現含水、粉末狀樣品的太赫茲光譜檢測,其結構簡單、方便調試。應用基于高阻硅的太赫茲衰減全反射檢測裝置,在分辨物體的組成成分,分析物體的物理化學性質方面具有潛在的工程應用價值。
聲明:
“基于高阻硅的太赫茲衰減全反射檢測裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)