一種由輻射束引起氣相化學反應而產生質粒,尤其是納米質粒裝置。輻射束包括電磁輻射或激光束。該裝置包括一反應室(102)和一導入輻射的窗(242)和狹長的一反應物入口(164)。所說的反應室結構與狹長反應物入口相一致,可在反應物氣流兩側引入保護氣體以惰性氣體罩防止反應氣體和產品質粒沖擊室壁和光學部件。該裝置還包括一高溫計(302)以監測反應物的熱發射,一質粒尺寸分析器(400)和一計算機(108),有一壓力傳感器(304)的反饋回路可用以維持反應室的壓力。
聲明:
“用化學反應生成質粒的裝置和方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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