本發明公開了一種利用原位化學熒光滴定測量氟原子產率的方法,本質上是一種經過改進的化學滴定方法。該方法特別適用于HF化學激光器,使用HF化學激光器中原本就存在的H2作為滴定劑,充分利用了HF化學激光器的原有裝置,不需要進行額外改動,具有方便易用的特點。此外,該方法所用的滴定指示信號是光腔原位化學熒光中NH(A)發光強度和N2(B)發光強度的比值,該比值只與主氣流中的氣流組分有關,與熒光絕對強度無關,因此能夠排除光譜測量時絕對光強度漲落噪聲的影響,可以有效提高測量準確性。
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