本發明公開了一種高硅硅鋼片的制作方法,涉及硅鋼片生產技術領域,包括如下步驟:S1、取普通硅鋼片;S2、在普通硅鋼片表面涂硅層;S3、對涂層后的硅鋼片進行高溫擴散;S4、檢測硅含量;S5、測試處理后的硅鋼片的磁性能;本發明所公開的高硅硅鋼片的制作方法,采用等離子化學氣相沉積法在普通硅鋼片表面涂硅層,溫度低,時間短,工藝重現性好,表面光潔,化合物層可達10μm以上,并有非晶態形成,能滿足0.1mm厚鋼片達6.5%Si的要求,與相同底Si的無取向硅鋼片相比,鐵損P10/50降低50%以上,其它磁性能也大有改善。
聲明:
“一種高硅硅鋼片的制作方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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