本發明涉及一套低溫激光掃描雙聚焦顯微系統的設計和制作。該設計和制作包括五個主要部分:I外場輸入;II低溫致冷腔;III光子收集;IV光譜/單光子檢測;V系統自動控制。系統主要技術性能指標包括:①真空極限熒光收集率;②振幅≤10納米;③平移精度≤10納米;④氦氣閉循環制冷;⑤最低溫度4K,穩定性≤0.01K;⑥多外場同步激發。⑦~10納米分辨率;⑧電學/光學測量;⑨外光路可擴展性。本發明的優點在于該套系統從光子收集率、三維平移精度、抗振動度、以及擴展性應用上都能達到同類國際頂級水平。能夠為量子點、半導體材料、微生物單分子等的量子光學、調控、光電和電學低溫/常溫測試等提供一套高效高精度低溫顯微測試平臺。
聲明:
“高效高精度低溫激光掃描雙聚焦顯微系統” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)