本發(fā)明屬于半導體光催化改性復合材料技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種WO3摻雜改性鉍系光催化材料制備方法和應用,采用常溫條件下超聲振動(dòng)等常用實(shí)驗手段制備出WO3摻雜改性鉍系光催化材料,反應時(shí)間較短,避免了高壓設備帶來(lái)的危害性,提高了實(shí)驗過(guò)程的安全性能,降低了廢液排放的有害性,并且制備的樣品尺度均勻,具有較薄的納米片層。本發(fā)明實(shí)現了常溫常壓制備,合成方法簡(jiǎn)單;本發(fā)明可以使多種金屬離子同時(shí)沉淀,所制備的片層狀納米材料使得光催化性能提高50%;本發(fā)明制備得到的WO3改性BiPO4納米金屬氧化物純度較高,無(wú)明顯雜質(zhì),純度可達99%以上;制備工藝簡(jiǎn)單、周期短、成本低,可以達到工業(yè)化生產(chǎn)的目的,同時(shí)可以在常溫下制備,節約能源消耗。
聲明:
“一種WO3改性BiPO4光催化劑的制備及其應用” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專(zhuān)利(論文)的發(fā)明人(作者)