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鈮酸鋰薄膜表面制作光學微納圖形的方法

1059   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-18 21:01:39
本發明涉及一種鈮酸鋰薄膜表面制作光學微納圖形的方法，屬于微納加工技術領域，包括：制作電子束曝光所需版圖；對鈮酸鋰襯底進行清洗、烘干；在鈮酸鋰襯底上濺射金屬導電層；在鈮酸鋰襯底上旋涂電子束膠；將鈮酸鋰襯底進行第一次電子束曝光制作標記；顯影和定影；在鈮酸鋰襯底上磁控濺射金屬制作金屬標記；去膠剝離金屬掩蔽的圖形，制成帶有金屬突起標記的鈮酸鋰片；在鈮酸鋰片上旋涂電子束膠；將鈮酸鋰片進行第二次電子束曝光制作圖形；顯影和定影；進行圖形轉移，形成微納結構。通過本發明所述方法，可在不導電的鈮酸鋰材料上制作側壁陡直的圖形，且可制作尺寸900nm以下的微納圖形，所制作的光波導折射率對比度大，可減小光器件尺寸，提高光器件性能。
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“鈮酸鋰薄膜表面制作光學微納圖形的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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