本發明涉及鋰微電池的制造方法。在鋰微電池的制造過程中,通過在設置有集電器(2a,2b)和陰極(3)的基板(1)上相繼沉積電解質薄膜(5a)、關于鋰是化學惰性的第一保護薄膜(6a)和第一掩模薄膜(7a)形成包含鋰化化合物的電解質。根據本發明,在第一掩模薄膜上進行光刻步驟以產生用于選擇性蝕刻第一掩模薄層(7a)的掩模,并隨后選擇性蝕刻第一保護薄層(6a)和電解質薄膜(5a)使得在電解質薄膜(5a)中形成電解質。該技術能夠通過光刻和蝕刻形成電解質而不會對該電解質引起任何損壞。
聲明:
“用于制造鋰微電池的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)