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抗輻照高熵合金/陶瓷多層薄膜及其制備方法

1092   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-18 17:53:02
本發明公開了一種抗輻照的高熵合金/陶瓷多層薄膜，包括交替沉積的TaWTiVMo高熵合金層和氧化鋁層；高熵合金層包括以下質量百分數的元素：28％～32％Ta，30％～36％W，15％～20％Ti，8％～13％V，余量是Mo，TaWTiVMo高熵合金層為體心立方結構；氧化鋁層中有納米空洞。本發明還公開了一種抗輻照的高熵合金/陶瓷多層薄膜的制備方法。本發明利用高熵合金薄膜和Al2O3薄膜，制備納米尺度的多層薄膜，二者形成的多層復合材料增加了晶界密度，顯著提升輻照環境下工作的電子設備元件的抗輻照性能。
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