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納米級氮化鈦-氮化硅復合材料的制備方法

1221   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-18 15:12:01
本發明涉及一種納米級高強度、導電性TiO2－Si3N4復合材料的制備方法，其特征在于首先用非均相沉淀法制備銳鈦礦型納米TiO2－Si3N4復合粉體，由納米TiO2－Si3N4復合粉體原位氮化制成氧化鈦－氮化硅復合粉體，然后原位氮化制成TiN－Si3N4復合粉體，加入Y2O3、Al2O3添加劑，制成TiN－Si3N4－Al2O3－Y2O3復合粉體，將TiN－Si3N4－Al2O3－Y2O3的復合粉體熱壓燒結而制成高強度、導電性的TiO2－Si3N4復合材料；復合材料中TiN/Si3N4=5/87～25/67，Al2O3為3，Y2O3為5(均為vol％)。本發明提供的方法制備的TiN－Si3N4中TiN/Si3N4=5/87～25/67(vol％)，在TiN含量為20－25vol％導電性最高，原位氮化后TiN顆均勻包裹在Si3N4顆粒表面，晶粒尺寸為40－50納米；比文獻報道的(30－50)vol％TiN含量低。
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