本發明涉及含有平行于模板主軸的溝狀空隙的化學反應器模板。溝狀空隙的橫截面積可以是微米級的,也可以是納米級的?;瘜W反應器模板可用來生產微米級和納米級細絲和顆粒。本發明的化學反應器模板至少具有兩個基本上平行于所述模板主軸的相交溝狀空隙。本發明還涉及利用犧牲層制備化學反應器模板的方法。本發明的化學反應器模板可制成具有多個溝狀結構陣列,以及垂直元件,為溝狀空隙與模板中形成的材料之間的接觸提供通路。本發明涉及用化學反應器模板制備細絲和顆粒的方法。細絲或顆粒在溝狀空隙中形成,然后擠出化學反應器模板。用化學反應器模板可以制備許多器件,在模板的基底上的第一和第二材料體系之間至少具有一個接觸區。本發明另一方面提供了用本發明的化學反應器模板制備的細絲。相應地,本發明涉及具有納米或微米級截面的定向細絲,它在具有納米級截面的溝道中制備。
聲明:
“化學反應器模板:犧牲層的制備和模板的應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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