權利要求
1.一種氮化硅陶瓷薄片，其特征在于：包括陶瓷薄片，所述陶瓷薄片頂部設有涂層結構，所述涂層結構包括涂覆于陶瓷薄片上的過渡層，過渡層另一面涂覆有功能層，所述功能層另一面涂覆保護層;
過渡層為氧化鋁，功能層為碳化硅，保護層為氮化鈦。
2.一種氮化硅陶瓷薄片的制備工藝，用于制備權利要求1所述的一種氮化硅陶瓷薄片，其特征在于：步驟如下：
S1原材料準備：氮化硅粉末、氧化鎂燒結助劑、聚乙烯醇分散劑、聚乙烯吡咯烷酮粘結劑和潤滑劑;
S2配料與混合：將氮化硅粉末與燒結助劑混合，使用球磨機對原料進行濕法球磨，球磨時間在12-24小時，加入適量的分散劑、粘結劑和潤滑劑;
S3成型：使用膠帶鑄造法，將混合后的漿料均勻涂布在基板上，形成陶瓷薄片，成型后的薄片厚度為100-500 μm，成型后的薄片在干燥箱中進行干燥，并且配合表面處理裝置進行完成，溫度控制在80℃，確保水分蒸發;
S4脫脂與預燒結：將干燥后的陶瓷坯體在200-400°C下進行脫脂處理，去除有機添加劑，隨后，在大氣環境中進行預燒結，溫度控制在800-1200°C，預燒結時間為2-4小時;
S5高溫燒結：采用熱壓燒結，燒結溫度控制在1700-1900°C，燒結時間為2-6小時，高溫燒結過程需要保持氮氣保護，燒結后的陶瓷薄片達到高密度，孔隙率低于1%;
S6后續加工：對燒結后的陶瓷薄片進行表面研磨和拋光處理，配合表面處理裝置進行完成，確保薄片表面粗糙度小于0.5 μm，最后采用激光設備將薄片進行裁切;
S7涂層結構的制備：
S701底層涂覆：過渡層，選擇氧化鋁，采用溶膠-凝膠法，將鋁異丙醇溶于醇類溶劑中，調節pH值后生成溶膠，接著將溶膠均勻涂布在氮化硅薄片表面，涂層厚度為100-200 nm，然后在80°C下干燥，然后在500-700°C進行退火;
S702中間層涂覆：功能層，選用碳化硅，采用物理氣相沉積方法，在真空環境下進行材料蒸發沉積，將中間功能層均勻沉積在底層涂層之上，厚度控制在1-10 μm;
S703表面保護層涂覆：使用氮化鈦，采用磁控濺射沉積工藝，在真空室中進行磁控濺射，將氮化鈦沉積在中間功能層上，形成厚度為500 nm-1 μ
聲明：
“氮化硅陶瓷薄片及其制備工藝” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)
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編輯：中冶有色網
來源：福建臻璟新材料科技有限公司
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2025年07月24日 ~ 26日 
