權利要求書： 1.一種掃描電子顯微鏡，所述掃描電子顯微鏡包括：電子槍，所述電子槍被配置為產生輸入電子束并且將所述輸入電子束照射到晶片上；偏轉器，所述偏轉器位于所述電子槍和所述晶片之間的所述輸入電子束的路徑上并且被配置為使所述輸入電子束的路徑偏轉；物鏡，所述物鏡位于所述偏轉器和所述晶片之間的所述輸入電子束的路徑上并且被配置為將所述輸入電子束聚焦在所述晶片上；第一檢測器，所述第一檢測器被配置為檢測基于所述輸入電子束照射在所述晶片上而從所述晶片發射的發射電子的第一部分，并且基于所述發射電子的所述第一部分生成第一圖像；第二檢測器，所述第二檢測器被配置為檢測所述發射電子的第二部分并且基于所述發射電子的所述第二部分生成第二圖像；第一能量濾波器，所述第一能量濾波器被配置為阻擋所述發射電子當中的能量小于第一能量的電子被所述第一檢測器檢測到；第二能量濾波器，所述第二能量濾波器被配置為阻擋所述發射電子當中的能量小于第二能量的電子被所述第二檢測器檢測到；以及處理器，所述處理器被配置為基于所述發射電子中能量介于所述第一能量與所述第二能量之間的第三部分、并通過所述第一圖像和所述第二圖像來生成所述晶片的圖像。2.根據權利要求1所述的掃描電子顯微鏡，其中，所述第二能量濾波器與所述輸入電子束的路徑間隔開。3.根據權利要求2所述的掃描電子顯微鏡，其中，所述第一能量濾波器與所述輸入電子束的路徑間隔開。4.根據權利要求2所述的掃描電子顯微鏡，其中，所述第一能量濾波器位于所述晶片和所述物鏡之間的所述輸入電子束的路徑上。5.根據權利要求4所述的掃描電子顯微鏡，其中，所述第一能量濾波器被配置為中和所述晶片。6.根據權利要求1所述的掃描電子顯微鏡，其中，所述處理器被進一步配置為對所述第一圖像和所述第二圖像執行差分運算以生成差分圖像。7.根據權利要求1所述的掃描電子顯微鏡，其中，所述第一能量小于所述第二能量。8.根據權利要求1所述的掃描電子顯微鏡，其中，所述第一能量濾波器和所述第二能量濾波器均被配置為阻擋所述發射電子當中的二次電子。9.根據權利要求1所述的掃描電子顯微鏡，其中，所述第一能量濾波器被配置為使俄歇電子通過，并且所述第二能量濾波器被配置為阻擋俄歇電子。10.根據權利要求1所述的掃描電子顯微鏡，其中，所述第一能量和所述第二能量均大于50e。11.一種掃
聲明：
“掃描電子顯微鏡、檢查晶片的方法及半導體器件制造方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)
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編輯：管理員
來源：三星電子株式會社
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2025年07月09日 ~ 11日 
