權利要求書(shū): 1.一種太陽(yáng)能電池的電注入再生方法,其特征在于,包括如下步驟:提供太陽(yáng)能電池結構,所述太陽(yáng)能電池結構包括自下而上設置的襯底層、窗口層、光吸收層、過(guò)渡層以及背電極層,其中,所述過(guò)渡層包括含銅材料層,所述光吸收層包括至少一個(gè)硒化鎘/碲化鎘循環(huán)單元構成的疊層結構,形成所述窗口層的方法包括磁控濺射法,形成所述光吸收層的方法包括空間升華法;
對所述光吸收層進(jìn)行活化退火處理以形成摻硒梯度的硒化鎘/摻硒碲化鎘/碲化鎘復合層,對所述太陽(yáng)能電池結構進(jìn)行電注入以使所述含銅材料層中的銅離子遷移釘扎,其中,所述硒化鎘/摻硒碲化鎘/碲化鎘復合層阻擋銅離子向所述窗口層擴散。
2.根據權利要求1所述的太陽(yáng)能電池的電注入再生方法,其特征在于,形成所述太陽(yáng)能電池結構的方法包括:
提供所述襯底層;
于所述襯底層上形成所述窗口層,其中,所述窗口層包括摻鎂氧化鋅層;
于所述窗口層上形成所述光吸收層;
于所述光吸收層上形成所述過(guò)渡層;
于所述過(guò)渡層上形成背電極層。
3.根據權利要求1所述的太陽(yáng)能電池的電注入再生方法,其特征在于,所述活化退火處理的退火溫度介于350℃?600℃之間,退火時(shí)間介于5min?40min之間。
4.根據權利要求1所述的太陽(yáng)能電池的電注入再生方法,其特征在于,所述硒化鎘材料層的厚度介于100nm?400nm之間,所述碲化鎘材料層的厚度介于2000nm?4000nm之間。
5.根據權利要求1所述的太陽(yáng)能電池的電注入再生方法,其特征在于,形成所述光吸收層后且在形成所述過(guò)渡層之前還包括步驟:將形成有所述光吸收層后的結構置于酸液中進(jìn)行蝕刻清洗,再在經(jīng)過(guò)所述刻蝕清洗后的所述光吸收層上形成所述過(guò)渡層。
6.根據權利要求1所述的太陽(yáng)能電池的電注入再生方法,其特征在于,所述過(guò)渡層還包括碲化鋅層,所述含銅材料層包括含銅碲化鋅層,其中,所述碲化鋅層形成于所述光吸收層表面,所述含銅材料層形成于所述碲化鋅層表面。
7.根據權利要求6所述的太陽(yáng)能電池的電注入再生方法,其特征在于,形成所述過(guò)渡層之后形成所述背電極層,且在形成所述背電極層之后還包括進(jìn)行銅擴散退火的步驟。
8.根據權利要求6所述的太陽(yáng)能電池的電注入再生方法,其特征在于,所述含銅碲化鋅層中銅的含量介于1%?10%之間;采用磁控濺射工藝形成所述碲化鋅層及所述含
聲明:
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