本發明公開了一種屏蔽中子和γ射線的氮化硼/高熵陶瓷氧化物和復合涂層及其制備方法,屬于防輻射領域。本發明要解決單一材料較難實現中子和γ射線的同時屏蔽的問題。本發明的A2B2O7型高熵陶瓷粉末中元素A是Gd、Er、Sm、La、Ce、Eu、Dy中的五種或者五種以上的元素組成,元素B為Hf;高熵陶瓷粉末表面包裹有氮化硼構成復合填料,所述復合填料和樹脂形成復合涂層。本發明應用于航天器、放射性醫療、核反應堆等領域。
聲明:
“屏蔽中子和γ射線的氮化硼/高熵陶瓷氧化物和復合涂層及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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