1.本發明涉及光學薄膜，具體涉及一種蓋板硬質涂層鍍膜工藝方法，是一種超現有光學薄膜，實現超強力學特性（鉛筆硬度＞9h，莫氏硬度≥7h，鋼絲絨摩擦2500次后水滴角＞100
°
），無膜厚限制和穩定的可靠性測試的鍍膜工藝方法。
背景技術：
2.光學薄膜的應用無處不在，從眼鏡鍍膜到手機、電腦、電視的液晶顯示再到led照明等等，它充斥著我們生活的方方面面，并使我們的生活更加豐富多彩。
3.查閱各種文獻資料，結合國內外相關專利資料，磁控機鍍制功能性涂層si3n4/sio2循環結構膜層硬度最高是6h，力學特性存在不穩定，鍍制涂層厚度要求在500nm以內，si3n4材料吸收大，滿足不了高要求的技術指標。
4.現有pvd鍍膜工藝對于蓋板鍍制ncvm+af，涂層力學特性差，可靠性測試不穩定，莫氏硬度小于5.5h，膜層振動摩擦2小時外觀出現明顯劃傷，af涂層摩擦負重1.1kg、防水摩擦2.5h有劃痕，鋼絲絨摩擦2500次后水滴角＜90
°
；防水涂層耐汗液測試變色脫膜，紫外照射老化有裂紋。
5.因此，需要發明一種超現有光學薄膜，實現超強力學特性（鉛筆硬度＞9h，莫氏硬度≥7h，鋼絲絨摩擦2500次后水滴角＞100
°
），無膜厚限制和穩定的可靠性測試的鍍膜工藝及加工流程。
技術實現要素：
6.針對現有技術所存在的缺陷，本發明所要解決的技術問題是提出磁控鍍制一種蓋板超硬質高透過低吸收ncvm和蒸鍍鍍制防污af薄膜及后加工流程，該流程短，技術指標合格，且生產工藝簡單，能夠同時滿足量產和節約成本的工藝。
7.為解決上述技術問題，本發明所采取的技術方案是：一種蓋板硬質涂層鍍膜工藝方法，是在涂層中添加氮氧硅化合物構成復合膜層，復合膜層是通過交替疊合的高折射率材料層、折射率材料和低折射率材料層制成，包括以下步驟：（1）對鍍膜設備的氧化室內部充入體積比1:1或2:1的氮氣和氧氣，本體靶材純度為99.999%硅靶，鍍制超硬質ncvm；（2）af使用蒸發機270度eb加射頻-晶控，使用蒸發鍍制防水，蒸發速率0.5-5a/s，ib清掃時間控制在20-60s；（3）對于需要遮蔽鍍膜系列的產品，ib清掃時間控制在20-60s，af膜料采用國產yp-520系列；（4）靜置一段時間af后，手動擦拭臟污，使用無塵布蘸取酒精，無塵布更換頻次要求8h更換一次；（5）干擦機工藝分四檔擦拭，工
聲明：
“蓋板硬質涂層鍍膜工藝方法與流程” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)
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編輯：中冶有色網
來源：河南鍍邦光電股份有限公司
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2025年08月05日 ~ 07日 
