本發明涉及工業廢水除硅技術領域,具體涉及一種除硅裝置及除硅方法。
背景技術:
除硅(desilication,silicaremoval)采用離子交換或其他方法除掉水中二氧化硅的過程。工業用水中的硅化合物會對生產過程產生不同程度的危害。工業鍋爐補給水、地熱水和冷卻水的硅化合物易于形成硅垢,且形成的硅垢致密堅硬,難于用普通的方法清洗,嚴重影響設備的傳熱效率以及安全運行;電子工業用水中,二氧化硅會對在單晶硅表面生產半導體造成極大危害,降低電子管及固體電路的質量;在造紙工業用水中,二氧化硅含量過高,將使紙質變脆;在人造絲工業用水中,硅酸含量過高將影響纖維強度和粘膠的粘度;在濕法冶金用水中,為此在不同的給水處理系統中,均需充分考慮硅的脫除。
為了解決上述問題,亟需發明一種除硅裝置及除硅方法,以解決工業水中二氧化硅的除去問題。
技術實現要素:
本發明的目的在于提供。
為達到上述目的,本發明采用的技術方案如下:
一種除硅裝置,包括含硅廢水加藥區(1)、二氧化硅反應沉淀器(2)、大通量精密過濾器(3)、nf裝置(4)、清洗水箱(5)和產品水箱(6);
所述含硅廢水加藥區(1)通過管道連通二氧化硅反應沉淀器(2),所述二氧化硅反應沉淀器(2)通過管道依次連通大通量精密過濾器(3)和nf裝置(4),所述nf裝置(4)連通產品水箱(6);
所述二氧化硅反應沉淀器(2)包括反應區(21)、沉降區(22)和凈水區(23),所述反應區(21)內設置有布水器(24),所述布水器(24)入水口通過管道連通nf裝置(4),所述二氧化硅反應沉淀器(2)還通過管道連通清洗水箱(5),所述清洗水箱(5)通過管道連通nf裝置(4)。
進一步的,所述含硅廢水加藥區(1)內設置有ph調節裝置(11)和氧化鎂加料裝置(12),所述ph調節裝置(11)和氧化鎂加料裝置(12)內均設置有攪拌器(13)。
進一步的,所述沉降區(22)和凈水區(23)通過管道連接排污閥(25),通過排污閥(25)將沉降區(22)和凈水區(23)產生的沉淀物排出。
進一步的,所述二氧化硅反應沉淀器(2)通過增壓泵(31)將經沉淀后的廢水輸送到大通量精密過濾器(3),所述大通量精密過濾器(3)通過高壓泵(32)將廢水輸送到nf裝置(4)。
進一步的,所述二氧化硅反應沉淀器(2)與增壓泵(31)之間設置第一電動閥(
聲明:
“除硅裝置及除硅方法與流程” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)