本公開涉及一種超聲波清洗系統,包括組織處理機,所述組織處理機具有用于接收試劑以處理組織樣本的工作室;超聲波發生器,用于產生超聲波信號,對所述工作室進行清洗處理;溫度傳感器模塊,用于檢測所述超聲波發生器的第一溫度和所述工作室內的試劑的第二溫度;以及控制單元,與所述超聲波發生器和所述溫度傳感器模塊連接,用于接收所述第一溫度和所述第二溫度,并且根據所述第一溫度或第二溫度控制所述超聲波發生器的操作。該超聲波清洗系統能夠加速組織處理機的工作室及其他相關部件的清洗過程,有效控制超聲波發生器及工作室內部的溫度以便穩定地發射超聲波進行清洗,避免超聲波發生器中的振蕩器及其他元件因為高溫失效或損壞,并且能夠有效抑制超聲波對于待處理的組織樣本的損傷。
聲明:
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