本發明涉及半導體工藝技術領域,本發明提供了一種掃描電鏡樣品的保存方法,首先提供樣品,并將樣品放入SEM設備中進行失效分析,接著在分析后的樣品表面涂覆用于隔絕空氣的保護層,然后將樣品放置在大氣環境中進行保存,當需要對樣品再次進行失效分析時,去除樣品表面的保護層,最后將樣品放入SEM設備中進行失效分析。本發明提供了一種可靠易行,成本較低的掃描電鏡樣品的保存方法,解決了現有技術在失效分析過程中,SEM樣品表面容易受損或氧化的問題,本領域技術人員采用該方法可提高失效分析的成功率,并降低失效分析的成本。
聲明:
“掃描電鏡樣品的保存方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)