本案涉及用于測試分辨率的熒光納米標準板的制備方法,包括:1)將基底層浸入硅烷化試劑中進行硅烷化處理,在基底層表面形成硅烷層;2)將硅烷層浸入熒光染料溶液中進行熒光染料修飾,在硅烷層表面形成熒光染料層;3)采用電子束光刻法對熒光染料層進行等間距曝光,使得未被曝光的部分形成等間距排列的熒光染料線條,而被曝光部分的熒光染料失效,形成惰性層;4)在熒光染料線條和惰性層的表面旋涂透明保護層。本案的制備工藝簡單,反應條件溫和無污染,工藝重現性好;通過精確調整熒光納米標準板的結構尺寸,實現熒光線條結構的整齊排列,直觀地反應出系統的分辨能力;同時,這種結構的標準板能夠實現批量制作,穩定性高,分辨率高。
聲明:
“用于測試分辨率的熒光納米標準板的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)