本發明公開了一種離子注入機中通用可編程的離子束流驟變監測及響應系統,涉及半導體裝備制造領域,尤其涉及離子注入機中對離子束流瞬態變化(Glitch)的監測與響應。此系統通過可編程的硬件架構,可快速準確地捕捉Glitch的發生,還可與離子注入機中的劑量控制系統協同作業,實現對Glitch做出微秒級別響應,以解決離子注入機中由于Glitch發生引起的工藝產品失效。
聲明:
“離子注入機中通用可編程的束流驟變監測及響應系統” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)